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我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復制模板。結合金剛石車削或直接寫入方法，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。